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反滲透膜的污染及清洗方法

發布日期:

2021-06-09 08:01:19

欄目:

膜法水處理資訊

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本篇適用于4英寸、6英寸、8英寸及8.5英寸直徑的反滲透膜元件。

1:在任何情況下不要讓帶有游離氯的水與復合膜元件接觸,如果發生這種接觸,將會造成膜元件性能下降,而且再也無法恢復其性能,在管路或設備殺菌之后,應確保送往反滲透膜元件的給水中無游離氯存在。在無法確定是否有游離氯時,應通過化驗來確證。應使用亞硫酸氫鈉溶液中和殘余氯,并確保足夠的接觸時間以保證反應完全。

2:在反滲透膜元件擔保期內,建議每次反滲透膜清洗應在與廠家協商后進行,在第清洗時,廠家服務人員應在現場。

3:在清洗溶液中應避免使用陽離子表面活性劑,因為如果使用可能會造成膜元件的不可逆轉的污染。


一、反滲透膜元件的污染物

在正常運行一段時間后,反滲透膜元件會受到在給水中可能存在的懸浮物質或難溶物質的污染,這些污染物中常見的為碳酸鈣垢、硫酸鈣垢、金屬氧化物垢、硅沉積物及有機或無機沉積物。

污染物的性質及污染速度與給水條件有關,污染是慢慢發展的,如果不在早期采取措施,污染將會在相對短的時間內損壞膜元件的性能。

定期檢測系統整體能性是確認膜元件發生污染的一個好方法,不同的污染物會對膜元件性能造成不同程度的損害。表1列出了常見污染物對膜性能的影響。

二、污染物的去除

污染物的去除可通過化學清洗和物理沖洗來實現,有時亦通過改變運行條件來實現,作為一般的原則,當下列情形之一發生時應進行清洗。

1、在正常壓力下如產品水流量降至正常值的百分之十。

2、為了維持正常的產品水流量,經溫度校正后的給水壓力增加了百分之十五。

3、產品水質降低百分之十,鹽透過率增加百分之十。

4、使用壓力增加百分之十五。

5、RO各段間的壓差增加明顯(也許沒有儀表來監測這一跡象)。

三、常見污染物及其去除方法

1、碳酸鈣垢

在阻垢劑添加系統出現故障時或加酸系統出現故障而導致給水PH值升高,那么碳酸鈣就有可能沉積出來,應盡早發現碳酸鈣垢沉淀的發生,以防止生長后的晶體對膜表面產生損傷,如早期發現碳酸鈣垢,可以用降低給水PH3.05.0之間運行12小時的方法去除。對沉淀時間更長的碳酸鈣垢,則應采用檸檬酸清洗液(控制PH不小于4.0)進行清洗。

注:應確保任何清洗液的PH不要低于4.0,否則可能會對RO膜元件造成損害,特別是在溫度較高時更應注意,最高的PH不應高于10.0??墒褂脷溲趸c來提高PH,使用硫酸或鹽酸來降低PH值。

2、硫酸鈣垢

清洗液2是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的科學方法。

3、金屬氧化物垢

可以使用上面所述的去除碳酸垢的方法,很容易地去除沉積下來的氫氧化物(例如氫氧化鐵)。

4、硅垢

對于不是與金屬化物或有機物共生的硅垢,一般只有通過專門的清洗方法才能將他們去除。

5、有機沉淀物

有機沉積物(例如微生物粘泥或霉斑)可以使用清洗液3去除,為了防止再繁殖,可使用殺菌溶液在系統中循環、浸泡,一般需較長時間浸泡才能有效,如反滲透裝置停用超過三天時,建議采用消毒處理,請與廠家會商以確定適宜的殺菌劑。

6、清洗液

清洗反滲透膜元件時建議采用清洗液。確定清洗液前對污染物進行化學分析是十分重的。對分析結果的詳細分析比較,可保證選擇有效清洗劑及清洗方法。應記錄每次清洗時清洗方法及獲得的清洗效果,為在特定給水條件下,找出科學清洗方法提供依據。

所有清洗液可以在溫度為華氏104度(攝氏40℃)下清洗60分鐘,所需用品量以每100加侖(379升)中加入量計,配制清洗液時按比例加入藥品及清洗用水,應采用不含液離氯的反滲透產品水來配制溶液并混合均勻。


四、反滲透膜元件的化學清洗與水沖洗

清洗時將清洗溶液以低壓大流量在膜的高壓側循環,此時膜元件仍裝在壓力容器內,而且需要用專門的清洗裝置來完成該工作。

清洗反滲透膜元件的一般步驟:

1、用泵將干凈、元游離氯的反滲透產品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中并排放幾分鐘。

2、用干凈的產品水在清洗箱中配制清洗液。

3、將清洗液在壓力容器中循環1小時或預先設定的時間。對于8英寸或8.5英寸壓力容器時,流速為3540加侖/分鐘(133151/分鐘),對于6英寸壓力容器流速為1520加侖/分鐘(5776/分鐘),對于4英寸壓力容器流速為910加侖/分鐘(3438/分鐘)。

4、清洗完成以后,排凈清洗箱并進行沖洗,然后向清洗箱中充滿干凈的產品水以備下一步沖洗。

5、用泵將干凈、無游離氯的產品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中并排放幾分鐘。

6、在沖洗反滲透系統后,在產品水排放閥打開狀態下運行反滲透系統,直至產品水清潔、無泡沫或無清洗劑(通常需1530分鐘)。

1 反滲透膜污染特征及處理方法



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